发明名称 |
等离子体约束装置及具有其的等离子体处理装置 |
摘要 |
本发明提出一种等离子体约束装置,包括:约束环,约束环包括多个同心圆环,多个同心圆环之间的缝隙形成约束通道,约束环的高度大于等离子体的平均自由程,约束通道用于抑制等离子体通过;第一约束片,第一约束片设置在约束环的顶部,以封闭约束通道,第一约束片上形成有多个约束通孔;以及第二约束片,第二约束片沿约束环的轴向可旋转地设置在第一约束片之上,第二约束片上形成有多个约束通孔。根据本发明实施例的等离子体约束装置具有结构简单,维修成本低且可以有效抑制等离子体扩散的优点。本发明还提出了一种等离子体处理装置。 |
申请公布号 |
CN103811263A |
申请公布日期 |
2014.05.21 |
申请号 |
CN201410065214.7 |
申请日期 |
2014.02.25 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
田凌;段文睿;韩文彬;冯娟;黄利平 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
张大威 |
主权项 |
一种等离子体约束装置,其特征在于,包括:约束环,所述约束环包括多个同心圆环,所述多个同心圆环之间的缝隙形成约束通道,所述约束环的高度大于等离子体的平均自由程,所述约束通道用于抑制所述等离子体通过;第一约束片,所述第一约束片设置在所述约束环的顶部,以封闭所述约束通道,所述第一约束片上形成有多个约束通孔;以及第二约束片,所述第二约束片沿所述约束环的轴向可旋转地设置在所述第一约束片之上,所述第二约束片上形成有多个所述约束通孔。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |