光刻胶涂胶喷嘴定位拾取装置

摘要

本发明涉及半导体匀胶显影设备，具体地说是一种光刻胶涂胶喷嘴定位拾取装置。包括光刻胶喷嘴拾取系统、光刻胶喷嘴装置及光刻胶喷嘴平台，其中光刻胶喷嘴平台上设有定位孔，所述光刻胶喷嘴装置安装在光刻胶喷嘴平台上、并通过光刻胶喷嘴平台上的定位孔定位，所述光刻胶喷嘴拾取系统的定位结构位于光刻胶喷嘴装置的上方，光刻胶喷嘴平台上用于定位光刻胶喷嘴装置的定位中心、光刻胶喷嘴拾取系统的定位中心和光刻胶喷嘴装置的喷胶中心在同一直线上，光刻胶喷嘴拾取系统通过打开或闭合定位结构对光刻胶喷嘴装置进行拾取和定位。本发明通过使光刻胶喷嘴装置的定位中心和光刻胶喷嘴喷涂中心重合来提高定位精度，减少结构件体积，提高成品率和生产效率。

主权项

一种光刻胶涂胶喷嘴定位拾取装置，其特征在于：包括光刻胶喷嘴拾取系统(10)、光刻胶喷嘴装置(20)及光刻胶喷嘴平台，其中光刻胶喷嘴平台上设有定位孔，所述光刻胶喷嘴装置(20)安装在光刻胶喷嘴平台上、并通过光刻胶喷嘴平台上的定位孔定位，所述光刻胶喷嘴拾取系统(10)的定位结构位于光刻胶喷嘴装置(20)的上方，光刻胶喷嘴平台上用于定位光刻胶喷嘴装置(20)的定位中心、光刻胶喷嘴拾取系统(10)的定位中心和光刻胶喷嘴装置(20)的喷胶中心在同一直线上，光刻胶喷嘴拾取系统(10)通过打开或闭合定位结构对光刻胶喷嘴装置(20)进行拾取和定位。