发明名称 | 一种光刻方法和设备 | ||
摘要 | 本发明公开了一种光刻方法和设备,方法包括:对基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置进行疏水处理;对经过疏水处理的基板表面涂覆亲水性光刻胶。通过本发明,能够大大减少边缘除胶过程中溶剂的用量,从而降低生产成本,提高产能。 | ||
申请公布号 | CN102722084B | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
申请号 | CN201110080114.8 | 申请日期 | 2011.03.31 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 周伟峰;薛建设 |
分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 蒋雅洁;程立民 |
主权项 | 一种光刻方法,其特征在于,该方法包括:对基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置进行疏水处理,具体为:所述基板沿辊轮传输,所述辊轮与所述基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置接触,所述辊轮的表面涂覆有药液,当所述辊轮通过转动带动所述基板运动时,盛放药液的药液容器通过药液传递部件将所述药液涂覆在所述辊轮的圆柱侧表面上,进而将所述辊轮的圆柱侧表面上涂覆的药液涂覆在所述基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置;或者,采用转印的方式,在将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置上涂覆药液;对经过疏水处理的基板表面涂覆亲水性光刻胶。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |