发明名称 浮区法生长莫来石晶体的方法
摘要 本发明公开了一种浮区法生长莫来石晶体的方法属于晶体生长领域。将粉料Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和SiO<sub>2</sub>按照化学计量比进行配料;将配制的混合料进行球磨、烘干、过筛、预烧、再次过筛;然后将粉料压制成棒状的料棒;将制得的料棒经过马弗炉烧结后得到致密均匀的多晶棒;将多晶棒放入浮区炉中,50~100℃/min的速率升温至料棒和籽晶开始融化,对接,使熔区稳定3~5分钟后,设置晶体生长速度为2~10mm/h,开始晶体生长;生长结束后,设置降温参数冷却至室温。本发明首次用浮区法生长出无宏观缺陷的莫来石晶体,成晶质量高,生长速度快。
申请公布号 CN103806103A 申请公布日期 2014.05.21
申请号 CN201410025472.2 申请日期 2014.01.20
申请人 北京工业大学 发明人 蒋毅坚;张春萍;马云峰;徐宏;王越;梅晓平
分类号 C30B29/34(2006.01)I;C30B13/00(2006.01)I 主分类号 C30B29/34(2006.01)I
代理机构 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人 刘萍
主权项 一种浮区法生长莫来石晶体的方法,其特征在于步骤如下:(1)将Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>和SiO<sub>2</sub>按化学计量比进行配料,用无水乙醇作为弥散剂稀释混合均匀,球磨烘干、200目过筛,将粉料放入坩埚中置于马弗炉中预烧,在1450~1500℃温度下,恒温预烧15~20h,然后研磨并200目二次过筛;(2)将(1)中二次过筛后的粉料装入长条形橡胶气球中,压实封闭,抽真空10~20min,用等静压65~70MPa的压力下,压制10~30min制得素胚体;(3)将(2)中制得的素胚体放入马弗炉中烧结,在1550~1650℃的温度下,恒温烧结15~30h,获得多晶棒;(4)在光学浮区炉中,以(3)中制得的多晶棒作为籽晶置于下方,将(3)中制得的多晶棒悬挂置于籽晶上方,设置籽晶上方的多晶棒和籽晶的旋转方向为反向,旋转速度为20~30rpm,以50~100℃/min的速率升温至籽晶和籽晶上方的多晶棒融化,对接,3~5min后设置晶体生长速度为2~10mm/h开始生长;(5)设置降温时间为0.5~5h,使所生长的晶体冷却至室温,取出。
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