外延生长设备

摘要

本发明提供一种外延生长设备，其包括反应腔室和加热单元，其中，反应腔室的腔室侧壁采用石英制作；加热单元围绕在腔室侧壁的外侧，并透过腔室侧壁朝向反应腔室的内部辐射热量。本发明提供的反应腔室，其可以提高反应腔室的温度分布均匀性，从而可以提高工艺的均匀性。

主权项

一种外延生长设备，其包括反应腔室和加热单元，其特征在于，所述反应腔室的腔室侧壁采用石英制作，所述加热单元围绕在所述腔室侧壁的外侧，并透过所述腔室侧壁朝向所述反应腔室的内部辐射热量。