| 发明名称 | 鳍结构及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种鳍结构及其制造方法。一示例方法可以包括：对衬底进行构图，以在衬底的选定区域上形成初始鳍；在衬底上形成电介质层，使得电介质层实质上覆盖初始鳍，其中位于初始鳍顶部的电介质层厚度充分小于位于衬底上的电介质层厚度；以及对电介质层进行回蚀，以露出初始鳍的一部分，其中，初始鳍的露出的所述部分用作鳍。 | ||
| 申请公布号 | CN103811342A | 申请公布日期 | 2014.05.21 |
| 申请号 | CN201210447851.1 | 申请日期 | 2012.11.09 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 朱慧珑 |
| 分类号 | H01L21/336(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 倪斌 |
| 主权项 | 一种制造鳍结构的方法，包括：对衬底进行构图，以在衬底的选定区域上形成初始鳍；在衬底上形成电介质层，使得电介质层实质上覆盖初始鳍，其中位于初始鳍顶部的电介质层厚度充分小于位于衬底上的电介质层厚度；以及对电介质层进行回蚀，以露出初始鳍的一部分，其中，初始鳍的露出的所述部分用作鳍。 | ||
| 地址 | 100083 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||