发明名称 形成有局部镀铜的柔性印刷基板的厚度最小化方法
摘要 本发明提供一种形成有局部镀铜的柔性印刷基板的厚度最小化方法,所述方法包括下列工序:加工孔的工序(S10);化学铜处理(S20);层压处理工序(S30);曝光工序(S40);显影工序(S50);局部镀金工序(S60);干膜剥离工序(S70);镀金砂磨工序(S80);对局部镀金进行砂磨而使得局部镀金厚度平准化及最小化,从而得以让进行了局部镀金的部分与整体基板之间的偏差最小化,可以防止蚀刻液在以后浸入而发生不良的情形。
申请公布号 CN103813657A 申请公布日期 2014.05.21
申请号 CN201310305785.9 申请日期 2013.07.19
申请人 SI弗莱克斯有限公司 发明人 郑上镐;郑义南
分类号 H05K3/42(2006.01)I 主分类号 H05K3/42(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 顾晋伟;彭鲲鹏
主权项 一种形成有局部镀铜的柔性印刷基板的厚度最小化方法,其特征在于,包括下列工序:为了在按照CU层、PI层及CU层的顺序叠层的印刷电路板上加工出成为BVH的PTH而利用紫外线激光钻孔或CNC钻孔加工孔(hole)的工序(S10);为了对上述孔(hole)加工工序(S10)所形成的孔(hole)赋予导电性而进行的化学铜处理(S20);在经过了上述化学铜处理工序(S20)的基板的两面涂覆干膜及离型纸的层压处理工序(S30);在所涂覆的干膜及离型纸的一面置放光罩膜后照射UV而形成电路的曝光工序(S40);对上述曝光工序(S40)中没有硬化的干膜及离型纸投入蚀刻液而把位于PTH周边的干膜及离型纸加以剥离的显影工序(S50);在上述显影工序(S50)中清除干膜而呈开放的PTH上进行局部镀金的局部镀金工序(S60);把经过了上述局部镀金工序(S60)的基板的两面上的干膜及离型纸加以剥离的工序(S70);针对上述局部镀金工序(S60)中形成于PTH的镀金进行砂磨作业而使得镀金厚度最小化的镀金砂磨工序(S80);上述镀金砂磨工序(S80)针对经过了上述干膜剥离工序(S70)的基板(E)的PTH(1)上形成的局部镀金进行砂磨而把局部镀金厚度磨削成50%,从而得以让进行了局部镀金的部分与整体基板之间的偏差最小化。
地址 韩国京畿道