发明名称 |
沉积装置及使用该装置的薄膜沉积方法 |
摘要 |
根据本发明一实施例的沉积装置包括:沉积室、第一组沉积源以及第二组沉积源。所述沉积室包括:第一等候区域、沉积区域以及第二等候区域。在所述第一等候区域和所述第二等候区域之间可以设置有所述沉积区域。所述第一组沉积源用于从所述第一等候区域向所述沉积区域移动、并且向设置在所述沉积区域的基底基板提供第一组沉积物质。所述第二组沉积源用于从所述第二等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供第二组沉积物质。 |
申请公布号 |
CN103805944A |
申请公布日期 |
2014.05.21 |
申请号 |
CN201310183635.5 |
申请日期 |
2013.05.17 |
申请人 |
三星显示有限公司 |
发明人 |
任子贤;田炳勋;李宽熙 |
分类号 |
C23C14/22(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 |
代理人 |
余朦;姚志远 |
主权项 |
一种沉积装置,包括:沉积室,具有第一等候区域、沉积区域以及第二等候区域;第一组沉积源,用于从所述第一等候区域向所述沉积区域移动、并且向设置在所述沉积区域的基底基板提供第一组沉积物质;以及第二组沉积源,用于从所述第二等候区域向所述沉积区域移动、并且向所述基底基板提供第二组沉积物质。 |
地址 |
韩国京畿道 |