发明名称 |
带有高反射率金属反射层的红光发光二极管及制备方法 |
摘要 |
一种带有高反射率金属反射层的红光发光二极管及制备方法,设有砷化镓(GaAs)衬底,砷化镓(GaAs)衬底上由下至上依次设有砷化铝(AlAs)剥离层,n型限制层,构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源区, p型限制层,p型窗口层以及临时p型盖帽层,其中,该临时p型盖帽层将被腐蚀掉,并在p型窗口层的上面蒸镀高反射率金属反射层,然后,再在高反射率金属反射层之上蒸镀p型电极,并形成一芯片整体;经切割后的芯片整体成为红光发光二极管(LED)所需的芯片结构。本发明在增加反射率的同时,避免了由分布布拉格反射器(DBR)带来的发光二极管工作电压升高的弊端,不仅可以将砷化镓(GaAs)衬底彻底剥离掉,而且,使经过重新处理后的砷化镓(GaAs)衬底可以再次得到利用。<!--1--> |
申请公布号 |
CN103811626A |
申请公布日期 |
2014.05.21 |
申请号 |
CN201210452581.3 |
申请日期 |
2012.11.12 |
申请人 |
天津中环新光科技有限公司;中国科学院物理研究所 |
发明人 |
王晓晖;陈弘;贾海强;宋京;丁国建;张荣勤;罗惠英 |
分类号 |
H01L33/46(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/46(2010.01)I |
代理机构 |
天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 |
代理人 |
高凤荣 |
主权项 |
一种带有高反射率金属反射层的红光发光二极管,设有砷化镓(GaAs)衬底,其特征在于:砷化镓(GaAs)衬底上由下至上依次设有砷化铝(AlAs)剥离层,n型限制层,构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源区, p型限制层,p型窗口层以及临时p型盖帽层,其中,该临时p型盖帽层将被腐蚀掉,并在p型窗口层的上面蒸镀高反射率金属反射层,然后,再在高反射率金属反射层之上蒸镀p型电极,并形成一芯片整体;经切割后的芯片整体成为红光发光二极管(LED)所需的芯片结构。 |
地址 |
300385 天津市西青区津港公路微电子工业区毕升道2号 |