发明名称 带有高反射率金属反射层的红光发光二极管及制备方法
摘要 一种带有高反射率金属反射层的红光发光二极管及制备方法,设有砷化镓(GaAs)衬底,砷化镓(GaAs)衬底上由下至上依次设有砷化铝(AlAs)剥离层,n型限制层,构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源区, p型限制层,p型窗口层以及临时p型盖帽层,其中,该临时p型盖帽层将被腐蚀掉,并在p型窗口层的上面蒸镀高反射率金属反射层,然后,再在高反射率金属反射层之上蒸镀p型电极,并形成一芯片整体;经切割后的芯片整体成为红光发光二极管(LED)所需的芯片结构。本发明在增加反射率的同时,避免了由分布布拉格反射器(DBR)带来的发光二极管工作电压升高的弊端,不仅可以将砷化镓(GaAs)衬底彻底剥离掉,而且,使经过重新处理后的砷化镓(GaAs)衬底可以再次得到利用。<!--1-->
申请公布号 CN103811626A 申请公布日期 2014.05.21
申请号 CN201210452581.3 申请日期 2012.11.12
申请人 天津中环新光科技有限公司;中国科学院物理研究所 发明人 王晓晖;陈弘;贾海强;宋京;丁国建;张荣勤;罗惠英
分类号 H01L33/46(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/46(2010.01)I
代理机构 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 代理人 高凤荣
主权项 一种带有高反射率金属反射层的红光发光二极管,设有砷化镓(GaAs)衬底,其特征在于:砷化镓(GaAs)衬底上由下至上依次设有砷化铝(AlAs)剥离层,n型限制层,构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源区, p型限制层,p型窗口层以及临时p型盖帽层,其中,该临时p型盖帽层将被腐蚀掉,并在p型窗口层的上面蒸镀高反射率金属反射层,然后,再在高反射率金属反射层之上蒸镀p型电极,并形成一芯片整体;经切割后的芯片整体成为红光发光二极管(LED)所需的芯片结构。
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