发明名称 一种超细硅纳米线阵列的制备方法
摘要 本发明涉及一种超细硅纳米线阵列的制备方法,属于纳米材料的制备及应用领域。本发明提出以二元或多元金属(合金)作为催化剂,使用金属辅助化学腐蚀法对硅片进行腐蚀,可得到超细直径的硅纳米线阵列。并且通过改变沉积或注入催化剂的各种参数,可有效调控催化剂的大小、形貌、分布、催化活性以及腐蚀过程中的物理化学稳定性,最终得到密度(填充因子)、直径、长度、表面形貌、粗糙度可调的硅纳米线阵列。本制备方法可高效低耗快速制备出超细硅纳米线阵列,适宜大规模工业化生产。
申请公布号 CN103803486A 申请公布日期 2014.05.21
申请号 CN201410025320.2 申请日期 2014.01.20
申请人 北京师范大学 发明人 郑瑞廷;谭植元;程国安
分类号 B81C1/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种超细硅纳米线阵列的制备方法,其特征是:使用二元或多元金属(合金)作为金属辅助化学腐蚀法制备超细硅纳米线阵列的催化剂,通过改变沉积(或注入)金属的数量、种类、顺序、剂量、能量以及沉积(或注入)的方法,以调控硅片表面催化剂颗粒的大小、形貌、分布以及催化活性,提高腐蚀过程中催化剂的物理化学稳定性;最终通过化学法腐蚀硅片获得直径、形态、填充因子、表面粗糙度可调的超细硅纳米线阵列。
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