发明名称 基板处理方法、EUV光罩之制造方法及EUV光罩
摘要
申请公布号 TWI438565 申请公布日期 2014.05.21
申请号 TW100104330 申请日期 2011.02.09
申请人 东芝股份有限公司 日本 发明人 樱井秀昭;寺山正敏
分类号 G03F1/22 主分类号 G03F1/22
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本