一种等离子体处理设备及其中的温度隔离装置

摘要

本发明涉及一种等离子体处理设备及其中的温度隔离装置；所述等离子体处理设备设置有能够密闭的腔室，所述腔室的侧壁顶部设置有环盖；所述腔室的顶部由介电窗构成，所述环盖与所述介电窗之间存在温度差；所述温度隔离装置是设置在所述环盖顶部的隔热圈；所述隔热圈的顶面，与所述介电窗的一部分底面相接触，实现对介电窗的支撑，从而隔绝介电窗与所述环盖之间的导热接触，以阻止热量由所述介电窗向环盖传导，实现减少介电窗中心位置到边缘位置的温度梯度的目的。本发明能够有效提升等离子体处理设备的安全性能。

主权项

一种温度隔离装置，用于等离子体处理设备；所述等离子体处理设备设置有能够密闭的腔室，所述腔室的侧壁（30）顶部设置有环盖（20）；所述腔室的顶部由介电窗（10）构成，所述环盖（20）与所述介电窗（10）之间存在温度差；其特征在于：所述温度隔离装置是设置在所述环盖（20）顶部的隔热圈（80）；所述隔热圈（80）的顶面，与所述介电窗（10）的一部分底面相接触，实现对介电窗（10）的支撑，从而隔绝介电窗（10）与所述环盖（20）之间的导热接触，以阻止热量由所述介电窗（10）向环盖（20）传导，减少介电窗（10）中心位置到边缘位置的温度梯度。