静电卡盘与基板处理装置

摘要

本发明提供了一种利用等离子体的基板处理装置。该装置包括：室，其中具有处理空间；基板支撑组件，其定位在室中并且包括支撑基板的静电卡盘；气体供给单元，其将气体供给到所述室中；以及电源，其施加功率以便由供给到室中的气体产生等离子体。静电卡盘包括：电介质板，其包括通过使用静电力吸附基板的电极；本体，其定位在电介质板下方并且包括高频电源连接到其上的金属板；以及结合单元，其定位在电介质板与本体之间并且将电介质板与本体紧固在一起。结合单元形成为多层结构。

主权项

一种基板处理装置，其包括：室，其中具有处理空间；基板支撑组件，其定位在所述室中并且包括支撑基板的静电卡盘；气体供给单元，其将气体供给到所述室中；以及电源，其施加功率以便由供给到所述室中的所述气体产生等离子体，其中，所述静电卡盘包括：电介质板，其包括通过利用静电力吸附所述基板的电极；本体，其定位在所述电介质板下方并且包括高频电源连接到其上的金属板；以及结合单元，其定位在所述电介质板与所述本体之间并且将所述电介质板与所述本体紧固在一起，其中，所述结合单元形成为多层结构。