| 发明名称 | 用于蚀刻机台的喷酸装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种喷酸装置，用于蚀刻机台，所述蚀刻机台具有腔体和蚀刻腔室，且所述腔室与所述蚀刻腔室之间具有卷门，所述喷酸装置包括：酸性液体源，存储有酸性液体；连接管路，连接于所述酸性液体源以传输所述酸性液体；喷射装置，设置于所述连接管路末端，用以向所述卷门喷射所述酸性液体以避免在所述卷门上形成结晶。本发明能够避免在腔室与蚀刻腔室之间的卷门上形成结晶。 | ||
| 申请公布号 | CN103787582A | 申请公布日期 | 2014.05.14 |
| 申请号 | CN201410029986.5 | 申请日期 | 2014.01.22 |
| 申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 吴前锋 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01)I | 主分类号 | C03C15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 赵根喜;李昕巍 |
| 主权项 | 一种喷酸装置，用于蚀刻机台，所述蚀刻机台具有中央腔体和蚀刻腔室，且所述中央腔室与所述蚀刻腔室之间具有卷门，其特征在于，所述喷酸装置包括：酸性液体源，存储有酸性液体；连接管路，连接于所述酸性液体源以传输所述酸性液体；喷射装置，设置于所述连接管路末端，用以向所述卷门喷射所述酸性液体以避免在所述卷门上形成结晶。 | ||
| 地址 | 201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 | ||