发明名称 |
浸渍平版印刷用组合物和浸渍平版印刷方法 |
摘要 |
提供新的光刻胶组合物,它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括:具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料;和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料;和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。 |
申请公布号 |
CN102253596B |
申请公布日期 |
2014.05.14 |
申请号 |
CN201110096073.1 |
申请日期 |
2007.10.30 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 |
发明人 |
S·J·卡波拉勒;G·G·巴克雷;D·王;L·贾 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I;G03F7/04(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
1.一种加工光刻胶组合物的方法,包括:(a)在基材上施涂光刻胶组合物,该组合物包括:(i)光活性组分,和(ii)一种或多种材料,它包含氟化光致酸-不稳定性基团,所述材料为选自下述通式(III)的光刻胶树脂:<img file="FDA0000401201980000011.GIF" wi="559" he="659" />其中,R=H,CH<sub>3</sub>,CF<sub>3</sub>;R<sub>2</sub>=CH<sub>2</sub>,CH<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>,CH<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>,CH<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>CF<sub>2</sub>,CH(CF<sub>3</sub>);LG是能够稳定碳阳离子的基团,它与R<sub>2</sub>和CF<sub>3</sub>一起形成下列基团:<img file="FDA0000401201980000012.GIF" wi="1027" he="801" />和(b)将光刻胶层浸渍曝光于能够活化光刻胶组合物的辐射。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |