一种旋转靶及溅射装置

摘要

本发明公开了一种旋转靶及溅射装置，旋转靶包括相对而置的上挡板和下挡板、位于上挡板与下挡板之间的支撑体以及多段相互紧密连接且包覆在支撑体外表面的旋转靶材，由于各旋转靶材的接缝在支撑体的旋转轴的投影为线段，而不是点，这样在旋转靶的旋转过程中，可以使各旋转靶材的接缝在基板上的投影来回移动，而不会使各旋转靶材的接缝始终对应基板的同一位置，从而使在基板上制备的薄膜的表面更均匀且性能一致，使旋转靶的镀膜质量得到优化。

主权项

一种旋转靶，包括：相对而置的上挡板和下挡板，位于所述上挡板与所述下挡板之间的支撑体，以及多段相互紧密连接且包覆在所述支撑体外表面的旋转靶材，其特征在于：各所述旋转靶材的接缝在所述支撑体的旋转轴的投影为线段。