发明名称 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
摘要 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够减少显示装置的色偏现象,改善显示效果。阵列基板包括阵列排布的多个像素单元,每个像素单元包括多个子像素单元,每个子像素单元的宽度相等,每个子像素单元对应一个第一电极,第一电极包括多个等间隔设置的条状结构,每个像素单元中不同子像素单元对应的第一电极的条状结构的间隔不完全相等;任意子像素单元满足Q·W+(Q-1)D<A,A为子像素单元的宽度,Q为子像素单元对应的第一电极的条状结构的个数,D为子像素单元对应的第一电极的条状结构的间隔,W为子像素单元对应的第一电极的条状结构的宽度。本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,应用于显示技术领域。
申请公布号 CN103792741A 申请公布日期 2014.05.14
申请号 CN201410032264.5 申请日期 2014.01.23
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 徐智强;金熙哲;徐超
分类号 G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1343(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板,包括阵列排布的多个像素单元,每个所述像素单元包括多个子像素单元,每个所述子像素单元的宽度相等,每个所述子像素单元对应一个第一电极,每个所述第一电极包括多个等间隔设置的条状结构,其特征在于,每个所述像素单元中不同子像素单元对应的所述第一电极的条状结构的间隔不完全相等;任意一个所述子像素单元满足Q·W+(Q‑1)D<A,其中,所述A为所述子像素单元的宽度,所述Q为所述子像素单元对应的所述第一电极的条状结构的个数,所述D为所述子像素单元对应的所述第一电极的条状结构的间隔,所述W为所述子像素单元对应的所述第一电极的条状结构的宽度。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号