发明名称 | 半导体相变存储器件 | ||
摘要 | 本发明提供了一种半导体相变存储器件。半导体相变存储器件包括:数据线,设置在半导体基板上;以及数据存储结构,设置在数据线之下并具有在沿数据线的方向上延伸的凹部。数据接触结构构造为接触数据存储结构,并具有填充数据存储结构的凹部的下部以及至少围绕数据线的下部的上部。数据存储结构的每个侧壁设置在与数据接触结构的上部的相应一个侧壁基本相同的平面。 | ||
申请公布号 | CN101826544B | 申请公布日期 | 2014.05.14 |
申请号 | CN201010002115.6 | 申请日期 | 2010.01.05 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 朴哉炫;吴在熙;殷圣豪 |
分类号 | H01L27/24(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 张波 |
主权项 | 一种半导体相变存储器件,包括:数据线,设置在半导体基板上;数据存储结构,设置在所述数据线之下并具有沿所述数据线的方向上延伸的凹部;以及数据接触结构,构造为接触所述数据存储结构,并具有填充所述数据存储结构的凹部的下部和至少围绕所述数据线的下部的上部,其中所述数据存储结构的每个侧壁设置在与所述数据接触结构的上部的相应一个侧壁基本相同的平面。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |