发明名称 |
一种高阻尼形状记忆合金及其制备方法 |
摘要 |
本发明公布了一种高阻尼形状记忆合金及其制备方法,该形状记忆合金的化学式为Ni<sub>55-x</sub>Cu<sub>x</sub>Mn<sub>25</sub>Ga<sub>20</sub>(0≤x≤6);按照Ni<sub>55-x</sub>Cu<sub>x</sub>Mn<sub>25</sub>Ga<sub>20</sub>的化学计量比,将Ni、Cu、Mn和Ga单质放入电弧熔炼炉中,并抽真空再充入氩气在110A下熔炼得到铸锭,并将铸锭反复熔炼后经高温固溶处理后淬火至室温,得到高阻尼形状记忆合金。对Ni<sub>55-x</sub>Cu<sub>x</sub>Mn<sub>25</sub>Ga<sub>20</sub>形状记忆合金体系的阻尼测试表明,这些样品具有高阻尼峰,阻尼峰值Q<sup>-1</sup>均大于0.03,最大峰值达到0.0771。阻尼峰的温度范围很宽,可达到200K-430K,完全覆盖环境温区,且阻尼峰不随频率变化、稳定性高,具有实际应用价值。 |
申请公布号 |
CN103789597A |
申请公布日期 |
2014.05.14 |
申请号 |
CN201410022995.1 |
申请日期 |
2014.01.17 |
申请人 |
西安交通大学 |
发明人 |
王宇;廖晓奇;黄崇辉;杨森;宋晓平 |
分类号 |
C22C30/00(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
C22C30/00(2006.01)I |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 61200 |
代理人 |
蔡和平 |
主权项 |
一种高阻尼形状记忆合金,其特征在于,该形状记忆合金的化学式为Ni<sub>55‑x</sub>Cu<sub>x</sub>Mn<sub>25</sub>Ga<sub>20</sub>,其中,0≤x≤6。 |
地址 |
710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号 |