| 发明名称 | 一种光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶组合物，按重量份计，包括：聚醚改性的有机硅流平剂580.1-1.0份，多官能基单体7-23份；碱可溶树脂13-29份；颜料分散体23-62.8份；光引发剂1.5-11.9%；溶剂10-45%。这种光刻胶组合物能够解决现有光刻胶组合物涂膜流平性不好，在高温后烘后，膜层表面收缩的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN103792789A | 申请公布日期 | 2014.05.14 |
| 申请号 | CN201410040176.X | 申请日期 | 2014.01.27 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 王雪岚 |
| 分类号 | G03F7/027(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李迪 |
| 主权项 | 一种光刻胶组合物，按重量份计，包括：聚醚改性的有机硅流平剂580.1‑1.0份，多官能基单体7‑23份；碱可溶树脂13‑29份；颜料分散体23‑62.8份；光引发剂1.5‑11.9份；溶剂10‑45份。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||