发明名称 |
用于显示设备的阵列基板及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于显示设备的阵列基板及其制造方法。用于显示设备的阵列基板包括:形成在基板上的选通线和连接到所述导线的栅极;形成在所述栅极上的栅绝缘层;位于所述栅极上的堆叠的有源层和障碍金属层,其中所述栅绝缘层夹在所述栅极与所述堆叠的有源层和障碍金属层之间;形成在所述障碍金属层上的数据线以及连接到所述数据线的源极和漏极;钝化膜,其形成在所述源极和漏极以及所述数据线上,并具有露出所述漏极的一部分和障碍金属层以及有源层的接触孔;以及像素电极,其形成在所述钝化膜上,并与所述漏极和包括有源层的障碍金属层接触。 |
申请公布号 |
CN101750825B |
申请公布日期 |
2014.05.14 |
申请号 |
CN200910261521.1 |
申请日期 |
2009.12.18 |
申请人 |
乐金显示有限公司 |
发明人 |
文教浩;安炳龙;崔熙敬;金哲泰;洪星旭;郑胜宇;赵容秀 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉 |
主权项 |
一种用于显示设备的阵列基板,该阵列基板包括:形成在基板上的选通线和栅极,所述栅极连接到所述选通线;形成在包括所述栅极的所述基板上的栅绝缘层,其中所述栅绝缘层夹在有源层和所述栅极之间;数据线以及连接到所述数据线的源极和漏极;其特征在于:所述阵列基板还包括:障碍金属层,所述有源层和所述障碍金属层堆叠在所述栅极上,所述数据线形成在所述障碍金属层上;钝化膜,其形成在所述源极和漏极以及所述数据线上,并具有露出所述漏极的一部分、所述障碍金属层的一部分、以及所述有源层的一部分的接触孔;以及像素电极,其形成在所述钝化膜上,并与所述障碍金属层的侧面、所述漏极和所述有源层接触,其中所述选通线、所述数据线以及所述源极和漏极由铜形成,其中所述障碍金属层由钼合金制成,该钼合金使用从由钛(Ti)、钽(Ta)、铬(Cr)、镍(Ni)、铟(In)、以及铝(Al)组成的组中选择的一种。 |
地址 |
韩国首尔 |