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发明名称 层间绝缘膜之乾蚀刻方法
摘要
申请公布号 TWI437633 申请公布日期 2014.05.11
申请号 TW096117249 申请日期 2007.05.15
申请人 爱发科股份有限公司 日本 发明人 森川泰宏;邹红罡
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本
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