| 摘要 |
본 발명은, 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질로부터 입자상 오염 물질을 제거하는 방법으로서, a) 입자상 오염 물질과 미세한 입자상 혼합 리튬 금속 인산염을 포함하고, 질량 x*m을 가지는, 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질을 제공하는 단계, b) 질량이 m인 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질을 함유하는 유동화 스테이지로 상기 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질을 공급하여, 유동화 스테이지에서 유동화시키는 단계, c) 상기 유동화된 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질을 시프팅 스테이지에 공급하여, 상기 시프팅 스테이지를 통과시키는 단계, d) 질량 m의 10배 내지 100배의 양이 상기 유동화 스테이지에 공급된 후, 상기 유동화 스테이지로의 상기 입자상 혼합 리튬 금속 인산염 물질의 공급을 중단하는 단계, e) 상기 유동화 스테이지에 존재하는 물질의 질량이 질량 m의 10% 내지 100%가 될 때까지, 상기 공급이 중단된 후 상기 유동화 스테이지에 존재하는 물질을 유동화 및 시프팅하는 단계, 및 f) 잔여 물질을 상기 유동화 스테이지로부터 제거하는 단계를 포함하고, 단계 b) 내지 f)의 과정을, 총 질량 x*m이 처리될 때까지 반복하는, 입자상 오염 물질의 제거 방법에 관한 것이다. |
