| 摘要 |
<p>복합파장을 사용하는 평판 디스플레이용 노광 장비의 한계 해상력을 극복할 수 있고, 생산성을 향상시킬 수 있는 포토 마스크 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크는 투광부; 상기 투광부와 이격되어 형성되며, 위상반전 저투광막 패턴 및 상기 위상반전 저투광막 패턴 상에 형성되며 상기 위상반전 저투광막 패턴보다 상대적으로 식각비(etch rate)가 높은 반투광막 패턴을 구비하는 차광부; 및 상기 투광부와 상기 차광부 사이에 개재되는 위상반전 저투광부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.</p> |
