发明名称 Mehrfach-Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibverfahren und Mehrfach-Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibvorrichtung
摘要 Ein Mehrfach-Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibverfahren enthält ein Durchführen eines AN/AUS-Schaltens eines Strahls durch ein individuelles Austastsystem für den entsprechenden Strahl, für jeden Strahl in mehrfachen Strahlen eines Ladungsträgerteilchenstrahls, bezüglich jeder Zeitbestrahlung einer Vielzahl von Bestrahlungen, unter Verwendung einer Vielzahl individueller Austastsysteme, die jeweils eine Strahl-AN/AUS-Steuerung eines entsprechenden Strahls in den mehrfachen Strahlen durchführen, und Durchführen einer Austaststeuerung, zusätzlich zum Durchführen eines AN/AUS-Schaltens des Strahls für den jeweiligen Strahl durch das individuelle Austastsystem, bezüglich der jeden Zeitbestrahlung der Vielzahl von Bestrahlungen, so dass der Strahl in einem AN-Zustand ist, während einer Bestrahlungszeit entsprechend der diesbezüglichen Bestrahlung ist, unter Verwendung eines gemeinsamen Austastsystems, das kollektiv eine Strahl-AN/AUS-Steuerung für eine Gesamtheit der mehrfachen Strahlen durchführt.
申请公布号 DE102013221950(A1) 申请公布日期 2014.05.08
申请号 DE201310221950 申请日期 2013.10.29
申请人 NUFLARE TECHNOLOGY, INC. 发明人 MATSUMOTO, HIROSHI;IIJIMA, TOMOHIRO;OGASAWARA, MUNEHIRO;INOUE, HIDEO;YOSHIKAWA, RYOICHI
分类号 G03F7/20;H01J37/30;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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