| 发明名称 | 一种基于光致异构材料的同轴三反变焦距光学系统 | ||
| 摘要 | 一种基于光致异构材料的同轴三反变焦距光学系统，由主镜、次镜、三镜以及位于短焦模式下系统出瞳位置的可变口径光阑组成。系统孔径光阑位于主镜上，主镜、次镜构成一组经典R-C光学系统，目标景物的辐射光束经主次镜汇聚形成中间实像，中间实像经三镜成像到光学系统焦面处。本光学系统主镜、次镜、三镜均采用光致异构材料，在光学系统变焦过程中利用其材料特性控制反射镜非球面系数变化，最终可在系统所有反射镜曲率半径不变的情况下，只通过反射镜非球面系数变化及镜间距少量调整使系统同时具备长焦距、高分辨率和短焦距、较大视场的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN103777350A | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN201410048580.1 | 申请日期 | 2014.02.12 |
| 申请人 | 北京空间机电研究所 | 发明人 | 苏云;张鹏斌;胡斌;汤天瑾 |
| 分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G02B7/182(2006.01)I;G02B17/06(2006.01)I;G02B5/10(2006.01)I;G01C11/02(2006.01)I | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人 | 安丽 |
| 主权项 | 一种基于光致异构材料的同轴三反变焦距光学系统，其特征在于：包括主镜（1）、次镜（2）、三镜（3）、驱动电机（4）、焦面探测器（5）和可变口径光阑（6）；主镜（1）、次镜（2）、三镜（3）和可变口径光阑（6）同轴放置；入射光束依次经过主镜（1）、次镜（2）反射之后，透过主镜（1）上的通光孔到达三镜（3），再经可变口径光阑（6）后在焦面探测器（5）处成像；所述的主镜（1）、次镜（2）、三镜（3）材料均采用光致异构材料；在主镜（1）、次镜（2）、三镜（3）的曲率半径保持不变的情况下，通过光致异构材料特性改变主镜（1）、次镜（2）、三镜（3）的非球面系数，并利用驱动电机（4）驱动三镜（3）沿光轴方向水平移动，完成整个光学系统的变焦。 | ||
| 地址 | 100076 北京市丰台区南大红门路1号9201信箱5分箱 | ||