发明名称 一种用于AMOLED聚合物衬底的抗激光损伤薄膜结构
摘要 本实用新型公开了一种用于AMOLED聚合物衬底的抗激光损伤薄膜结构,其设置于聚合物衬底上,所述薄膜结构包括叠加的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层,其中所述的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层在所述聚合物衬底上均设置至少两层,所述薄膜结构的顶层和底层均为所述高折射率薄膜层。通过在聚合物衬底上设置多层的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层,当薄膜结构的反射率足够高时,还有可能因为激光充分反射而降低结晶化所需的ELA激光能量,使衬底材料的选择面更广。同时,本实用新型所提供的薄膜结构还能起到阻挡由聚合物衬底方向渗透的水氧的作用,可以作为水氧阻隔层使用。
申请公布号 CN203589031U 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201320636838.0 申请日期 2013.10.15
申请人 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 发明人 朱少鹏;林立;陈红
分类号 H01L27/13(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I 主分类号 H01L27/13(2006.01)I
代理机构 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人 彭秀丽
主权项 一种用于AMOLED聚合物衬底的抗激光损伤薄膜结构,其设置于聚合物衬底上,其特征在于,所述薄膜结构包括叠加的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层,其中所述的高折射率薄膜层和低折射率薄膜层在所述聚合物衬底上均设置至少两层,所述薄膜结构的顶层和底层均为所述的高折射率薄膜层。
地址 215300 江苏省苏州市昆山市开发区光电产业园富春江路320号