| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于铜钨合金的化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。本发明的抛光液可以在实现铜钨合金高速抛光速度的同时，显著抑制铜表面的腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN103774150A | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN201210411192.6 | 申请日期 | 2012.10.25 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | C23F3/06(2006.01)I | 主分类号 | C23F3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其含有水、研磨颗粒、银离子、硫酸根离子、铜腐蚀抑制剂和氧化剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||