发明名称 一种测量二次电子发射系数的平板型收集装置及测量方法
摘要 本发明公开了一种测量二次电子发射系数的平板型收集装置及测量方法。测量装置主要由转动平台、样品台、加热装置、法拉第筒、电流放大器及收集极等组成。法拉第筒内壁镀有一层碳,与偏压装置及电流放大装置相连,用于测量入射一次电流。收集极为平板结构,上表面涂有一层荧光粉,方便调节和聚焦电子束光斑;下表面镀有一层碳,抑制在收集过程中电子倍增现象的发生。收集极与偏压装置及电流放大装置相连,用以测量材料表面发射的二次电子流。通过转动装置可以实现多块样品的同时测量,节省了测量时间。加热装置及温度控制装置可以将样品温度精确控制在30~300℃范围,用以研究温度对二次电子发射系数的影响。本发明为测量二次电子发射系数提供了一种新的电子收集装置,实现不同温度下二次电子发射系数的测量。
申请公布号 CN103776858A 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201410023001.8 申请日期 2014.01.17
申请人 西安交通大学 发明人 张冠军;宋佰鹏;穆海宝;邓军波;申文伟;卜忍安
分类号 G01N23/22(2006.01)I 主分类号 G01N23/22(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 蔡和平
主权项 一种测量二次电子发射系数的平板型收集装置,其特征在于,包括在真空室(9)内平行布置的样品台(4)和收集极(2),收集极(2)上开设有束斑小孔(3),电子枪(1)发射穿过束斑小孔(3)的电子束;样品台(4)的下端设有与转动轴(8)相连接的转动平台(7),样品台(4)上设有多个样品放置位,法拉第筒(6)设置在转动平台(7)上,样品台(4)的样品放置位、法拉第筒(6)通过转动平台(7)的转动交替位于束斑小孔(3)的下方;收集极(2)、法拉第筒(6)分别与真空室(9)外的电流检测装置相连接。
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