衬底和使用该衬底的方法

摘要

本发明公开了一种从用于光刻中的设备去除污染物的方法以及一种适用于从用于光刻中的设备去除污染物的衬底，所述方法包括：将衬底装载到所述设备中，所述衬底包括刚性支撑层以及设置在所述刚性支撑层上的可变形层；将所述衬底的所述可变形层与所述设备的表面形成接触，污染物将从所述设备的表面上去除；引起在所述可变形层和所述设备的将被去除的污染物所在的所述表面之间的相对运动以将污染物从所述表面移除；以及去除被移除的污染物。本发明的其它方面也被描述和阐述。

主权项

一种从浸没式光刻设备的浸没流体或浸没罩去除污染物的方法，所述方法包括：将衬底装载到所述浸没式光刻设备中，以将污染物吸引到所述衬底上，所述衬底包括第一区域、第二区域、第三区域和第四区域，所有所述四个区域配置用于吸引污染物，所述第一区域、所述第二区域、所述第三区域和所述第四区域带有不同的极性或电荷，所述第一区域、第二区域、第三区域和第四区域中的每个区域属于以下四种情况中的不同的一种：带极性且带正电荷、带极性且带负电荷、非极性的并且带正电荷、以及带非极性并且带负电荷；以及将所述衬底从所述浸没式光刻设备中卸载。