一种掩膜版修复方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版修复方法，采用紫外光处理掩膜版的图形缺失修复后产生的halo残余缺陷，利用短波长高能量的紫外光，激发残余缺陷，使其短时间内分解，从而使得halo残余缺陷消失。并且，采用紫外光处理不会对掩膜版的相位层造成损坏，也就降低了处理的风险，同时能够避免残余缺陷在经过实际生产的大量过货使用而变得糟糕，大大延长了使用寿命，节省了生产成本。

主权项

一种掩膜版修复方法，其特征在于，包括：提供掩膜版；对所述掩膜版的缺陷区域进行图形填充；对图形填充后的掩膜版进行紫外光照射处理。