一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置

摘要

本新型涉及真空镀膜设备，特指一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置。它包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。采用上述结构后，本新型的清洗装置可以清除基板表面异物，改善成膜质量，增加沉积层在基底上的附着力。

主权项

一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置，包括有镀膜设备中用来清洗的真空室，其特征在于：该真空室为凹型容腔，真空室上部的开口对应待清洗的镀膜基板；真空室的底部安装有用来抽真空的真空机构，在真空室内固定设有绝缘支撑件，在绝缘支撑件上设有用来提供清洁气体的布气孔，在绝缘支撑件上还分别间隔设有两个电极，两个电极分别通过各自的电源线与外部的高压中频电源电连接；工作时，在接通高压中频电源的两个电极作用下使清洁气体形成等离子体，所述镀膜基板位于该等离子体范围之内。