显示装置制造用光掩模和图案转印方法

摘要

本发明提供显示装置制造用光掩模和图案转印方法。在具有转印用图案的显示装置制造用光掩模中，所述转印用图案具有：主图案，其由透光部构成，直径为4μm以下；以及辅助图案，其配置在所述主图案的周边，具有无法通过曝光来分辨的宽度，由透光部构成，在透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光之间，彼此间实质上不存在相位差，当设所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度的中心之间的距离为间距P（μm）时，所述间距P被设定为，使得由于透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光产生的光的干涉而产生的±1阶的衍射光入射到用于所述曝光的曝光机的光学系统。

主权项

一种显示装置制造用光掩模，其具有通过对形成在透明基板上的至少遮光膜进行图案形成而形成的、包含遮光部和透光部的转印用图案，该显示装置制造用光掩模的特征在于，所述转印用图案具有：主图案，其由透光部构成，直径为4μm以下；以及辅助图案，其配置在所述主图案的周边，具有比主图案的直径小的宽度，由透光部或半透光部构成，透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光之间的相位差是0度以上90度以下，当设所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度的中心之间的距离为间距P时，其中所述间距P的单位为μm，所述间距P被设定成，使得由于透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光之间的光的干涉而产生的±1阶的衍射光入射到用于所述曝光的曝光机的光学系统。