发明名称 | 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘 | ||
摘要 | 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘,涉及MOCVD外延片生产设备——石墨盘的结构设计。本实用新型包括大石墨盘和小石墨盘,在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓,在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽,所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方;在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽;其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽,所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。本实用新型补偿了连接栓导热造成的小盘中心局部温度较高的现象,从而改善小石墨盘的温度差异现象,同时使得小石墨盘上中心片槽和边缘片槽的温度达到一致,最终在小盘上获得均匀性很好的外延片。 | ||
申请公布号 | CN203582971U | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
申请号 | CN201320747890.3 | 申请日期 | 2013.11.25 |
申请人 | 扬州中科半导体照明有限公司 | 发明人 | 李盼盼;李鸿渐;李志聪;孙一军;王国宏 |
分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
代理机构 | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人 | 江平 |
主权项 | 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘,包括大石墨盘和小石墨盘,在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓,在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽,所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方;在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽;其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽,所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。 | ||
地址 | 225009 江苏省扬州市开发区临江路186号 |