发明名称 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘
摘要 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘,涉及MOCVD外延片生产设备——石墨盘的结构设计。本实用新型包括大石墨盘和小石墨盘,在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓,在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽,所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方;在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽;其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽,所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。本实用新型补偿了连接栓导热造成的小盘中心局部温度较高的现象,从而改善小石墨盘的温度差异现象,同时使得小石墨盘上中心片槽和边缘片槽的温度达到一致,最终在小盘上获得均匀性很好的外延片。
申请公布号 CN203582971U 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201320747890.3 申请日期 2013.11.25
申请人 扬州中科半导体照明有限公司 发明人 李盼盼;李鸿渐;李志聪;孙一军;王国宏
分类号 C23C16/458(2006.01)I 主分类号 C23C16/458(2006.01)I
代理机构 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人 江平
主权项 一种提高MOCVD外延片均匀性的石墨盘,包括大石墨盘和小石墨盘,在大石墨盘上设有通气小孔和连接栓,在小石墨盘中心的背部设置与连接栓适配的支撑凹槽,所述小石墨盘通过支撑凹槽和连接栓的配合布置在大石墨盘上方;在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽;其特征在于在大石墨盘背面开设圆柱形凹槽,所述凹槽和连接栓布置在同一轴线上。
地址 225009 江苏省扬州市开发区临江路186号