| 发明名称 | 光刻胶成膜树脂及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻胶成膜树脂及其制备方法，属于微电子加工领域，为解决现有技术中以酚醛树脂作为光刻胶成膜树脂时，玻璃化转变温度较低，不适于高温加工的问题而设计。一种光刻胶成膜树脂，由式（1）所示的单体A、式（2）所示的单体B和式（3）所示的单体C聚合而成；<img file="DDA00002219519300011.GIF" wi="1097" he="1074" />其中，所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%；所述n为1-10的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN102890418B | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN201210379544.4 | 申请日期 | 2012.09.29 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘陆;薛建设;惠官宝 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;C08F220/36(2006.01)I;C08F220/34(2006.01)I;C08F232/04(2006.01)I;C08F220/06(2006.01)I;C08F220/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶成膜树脂，其特征在于，由式（1）所示的单体A、式（2）所示的单体B和式（3）所示的单体C聚合而成；<img file="FDA0000444108030000011.GIF" wi="1120" he="1097" />其中，所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%；所述n为1-10的整数；所述R<sup>1</sup>-R<sup>4</sup>各自地选自氢、卤素、羟基、取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基、C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷氧基、取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>胺基中的一种；所述R<sup>5</sup>-R<sup>6</sup>各自地选自氢、取代或未取代的烷基和杂环基中的一种；所述R<sup>7</sup>选自氢、卤素、羟基和C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基中的一种；所述R<sup>8</sup>选自羧基或酯基中的一种。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||