发明名称 |
一种单晶硅硅片清洗制绒工艺 |
摘要 |
本发明涉及一种单晶硅硅片清洗制绒工艺,属于化工技术领域。具体步骤如下:(1)采用自制硅片清洗剂针对硅片进行预清洗。(2)预清洗后的硅片,进入制绒槽体;制绒槽体中配置好制绒液,制绒液按溶液质量百分比计添加0.1%~5%的氢氧化钠,0.1%~3%的氢氧化钾,1%~5%的异丙醇,以及0.02%~5%的自制制绒添加剂;采用升温至反应温度70℃~90℃,进行制绒;制绒过程中开启超声波设备。(3)制绒时,槽体封闭;投片前,开启搅拌装置进行搅拌;制绒反应时间为15~40min。本发明清洗剂和制绒添加剂的使用,使得工艺控制简单稳定,降低了能耗,增强了过程控制能力,从而大大提高了产品各方面的控制质量,降低了生产各方面的成本,提高了综合经济效益。 |
申请公布号 |
CN103774239A |
申请公布日期 |
2014.05.07 |
申请号 |
CN201310572106.4 |
申请日期 |
2013.11.13 |
申请人 |
河南科技学院 |
发明人 |
赵宁;安彩霞;连照勋;刘萍;王天喜 |
分类号 |
C30B33/10(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I |
主分类号 |
C30B33/10(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种单晶硅硅片清洗制绒工艺,其特征在于:具体步骤如下:(1)采用自制硅片清洗剂针对硅片进行预清洗,预清洗的温度为70~90℃,时间为30~60min,并开启超声波功能,超声波功率为10~40W;(2)预清洗后的硅片,进入制绒槽体;制绒槽体中配置好制绒液,制绒液按溶液质量百分比计添加0.1%~5%的氢氧化钠,0.1%~3%的氢氧化钾,1%~5%的异丙醇,以及0.02%~5%的自制制绒添加剂;采用升温至反应温度70℃~90℃,进行制绒;制绒过程中开启超声波设备,超声波功率为20~40W;(3)制绒时,槽体封闭;投片前,开启搅拌装置进行搅拌;制绒反应时间为15~40min。 |
地址 |
453003 河南省新乡市红旗区河南科技学院 |