发明名称 一种真空远区等离子体处理装置
摘要 本实用新型涉及一种真空远区等离子体处理装置,包括反应腔、电极组件、等离子发生器和负压设备,反应腔包括放电腔和用于材料表面活化反应的处理腔,放电腔设置于处理腔上方并与处理腔连通,放电腔顶部设置有气体入口,处理腔底部设置有气体出口,电极组件设置于放电腔外表面,等离子发生器与电极组件电连接,负压设备与气体出口连接。本实用新型中负压设备将放电腔和处理腔中抽真空,等离子发生器驱动电极组件生成电场,反应气体从气体入口进入经过放电腔电离后进入处理腔中对材料表面进行活化反应,材料远离电场环境,适用于绝缘材料和非绝缘材料,满足各种材料的处理需求,处理腔不受放电腔空间的限制,可满足不同面积的材料处理,更加方便。
申请公布号 CN203588974U 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201320809973.0 申请日期 2013.12.11
申请人 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 发明人 沈文凯;王红卫
分类号 H01J37/32(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人 孟宏伟
主权项 一种真空远区等离子体处理装置,其特征在于,包括反应腔、电极组件、等离子发生器和负压设备,所述反应腔包括放电腔和用于材料表面活化反应的处理腔,所述放电腔设置于所述处理腔上方并与所述处理腔连通,所述放电腔顶部设置有气体入口,所述处理腔底部设置有气体出口,所述电极组件设置于所述放电腔外表面,所述等离子发生器与所述电极组件电连接,所述负压设备与所述气体出口连接。
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