| 发明名称 | 具有被膜的片材及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供防止低聚物在膜表面析出的简易的方法。通过以1500mJ/cm<sup>2</sup>以上的曝光量对膜基材(11)照射紫外线，使膜基材(11)的至少一部分改性，而形成被膜(12)，从而防止低聚物在膜基材(11)表面析出。 | ||
| 申请公布号 | CN102300910B | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN200980153179.1 | 申请日期 | 2009.11.25 |
| 申请人 | 木本股份有限公司 | 发明人 | 金京春;山崎加奈美;斋藤正登 |
| 分类号 | C08J7/00(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;G06F3/045(2006.01)I | 主分类号 | C08J7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种片材的制造方法，是制造具有将膜基材的至少一部分改性而成的被膜、且用于光学部件的基膜的片材的方法，其特征在于，对所述膜基材以1500mJ/cm<sup>2</sup>～30000mJ/cm<sup>2</sup>的积分曝光量照射紫外线，形成所述被膜。 | ||
| 地址 | 日本埼玉县 | ||