| 摘要 |
<p>Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung dünner poröser Membranen aus Siliconverbindung S, bei dem in einem ersten Schritt eine Lösung oder Suspension aus Siliconzusammensetzung SZ in einem Gemisch aus Lösungsmittel L1 und Lösungsmittel L2 gebildet wird, in einem zweiten Schritt die Lösung oder Suspension in eine Form gebracht wird, in einem dritten Schritt Lösungsmittel L1 aus der Lösung oder Suspension entfernt wird bis die Löslichkeit der Siliconzusammensetzung SZ im Gemisch aus Lösungsmittel L1 und Lösungsmittel L2 unterschritten wird, wobei sich eine an Siliconzusammensetzung SZ reiche Phase A und eine an Siliconzusammensetzung SZ arme Phase B ausbildet und damit die Strukturbildung durch die Phase A erfolgt und in einem vierten Schritt das Lösungsmittel L2 und Reste des Lösungsmittels L1 entfernt werden und Siliconzusammensetzung SZ einer Vernetzung unterworfen wird, wobei Siliconverbindung S gebildet wird; die nach dem Verfahren herstellbaren Membranen aus Siliconverbindung S und deren Verwendung zur Trennung von Gemischen, in Wundpflastern, zur Beschichtung von Gehäusen, Baustoffen oder als wasserabweisende und atmungsaktive Schicht in Textilien oder als Verpackungsmaterialien.</p> |
