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发明名称 利用狭缝型半色调图案的光掩膜制造方法及其制造出的光掩膜
摘要
申请公布号 TWI436157 申请公布日期 2014.05.01
申请号 TW100101454 申请日期 2011.01.14
申请人 ＰＫＬ股份有限公司 南韩 发明人 李昌雨;李锺华;尹相弼;崔相洙
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 康清敬 台北市大安区敦化南路2段77号19楼
主权项
地址 南韩
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