| 发明名称 |
含有药物之蜡基质粒子的制造方法、使用在该方法之挤压机及含西洛他唑（Ｃｉｌｏｓｔａｚｏｌ）之缓释性制剂 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI435718 |
申请公布日期 |
2014.05.01 |
| 申请号 |
TW095148163 |
申请日期 |
2006.12.21 |
| 申请人 |
大塚制药股份有限公司 日本 |
发明人 |
友平裕三;山口恭生 |
| 分类号 |
A61J3/06;A61K31/4709;A61K9/14;A61K47/44;B01J2/04 |
主分类号 |
A61J3/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
