发明名称 基板台之遮盖、微影装置之基板台、微影装置及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI436171 申请公布日期 2014.05.01
申请号 TW100108807 申请日期 2011.03.15
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 拉法瑞 雷孟德 威黑墨斯 路易斯;罗赛特 耐可 贾可伯斯 乔汉;兹德拉夫科夫 亚历山得 尼可拉夫;史都丹 真 威廉;比杰 伯那都斯 兰伯杜斯 乔纳斯
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰