化学机械抛光液,申请号TW100141939-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	化学机械抛光液
摘要
申请公布号	TWI435923	申请公布日期	2014.05.01
申请号	TW100141939	申请日期	2011.11.17
申请人	安集微电子（上海）有限公司中国	发明人	王晨;何华锋
分类号	C09G1/02;C09K3/14;C23F3/00;H01L21/3213	主分类号	C09G1/02
代理机构		代理人	冯博生台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址	中国

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