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经营范围
发明名称
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
摘要
申请公布号
TWI436168
申请公布日期
2014.05.01
申请号
TW097150792
申请日期
2008.12.26
申请人
尼康股份有限公司 日本
发明人
柴崎佑一
分类号
G03F7/20;H01L21/027;G01B11/00
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
日本
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