A-面蓝宝石晶片的表面抛光方法

摘要

本发明公开了A-面蓝宝石晶片的表面抛光方法，通过配置抛光液，抛光液配置完成后，需保持循环搅拌的状态，以使抛光液中的固体成分悬浮均匀；然后在铜抛光机上将晶片贴于陶瓷盘上对晶片表面进行粗抛光，最后在单面抛光机上进行精抛光，精抛光使用步抛光液，经本发明所述方法抛光后的A-面蓝宝石晶片的表面平坦度和TTV效果较好，可以将A-面蓝宝石晶片的表面抛光至镜面效果，达到目前行业标准要求，且整个加工过程中不会产生崩边等二次损伤，从而大大提高了量产过程中的良率。

主权项

A‑面蓝宝石晶片的表面抛光方法，其特征在于，所述方法步骤如下：（A）首先配置抛光液，所述抛光液中硅溶胶和去离子水的质量比为1︰1－1︰4，控制体系的pH值为9－12，抛光液配置完成后，需保持循环搅拌的状态，以使抛光液中的固体成分悬浮均匀；（B）然后在铜抛光机上将晶片贴于陶瓷盘上对晶片表面进行粗抛光，粗抛光使用平均粒径为2.5－3.5um的钻石抛光液，控制压力为100－150g/cm²，转速为30－50RPM，流量为每5s喷5g，单面抛光20－30min；（C）最后在单面抛光机上进行精抛光，精抛光使用步骤（1）中配置的抛光液，控制压力为300－400g/cm²，转速控制为40－70RPM，流量控制为0.8－1.5L/min，单面抛光时间大于120min。