| 摘要 |
Настоящее изобретение относится к способу производства пленок из оксидов, нитридов или оксинитридов металлов или полупроводников на подложке посредством способа ПХО, включающий следующие этапы: (i) обеспечение наличия устройства ПХО низкого давления, включающего по меньшей мере один источник плазмы, который содержит по меньшей мере один электрод, подключенный к сети переменного тока, генератору постоянного тока или импульсному DC-генератору, для нанесения путем осаждения указанных пленок на подложку, и (ii) подача электрической энергии на источник плазмы, а также подача на подложку газа-предшественника оксидной пленки, приготовленного из оксидов, нитридов или оксинитридов металлов или полупроводников, и активного газа, приготовленного из кислорода, производных кислорода или производных азота. Изобретение также относится к способу получения пленок из оксидов, нитридов или оксинитридов металлов или полупроводников. |
