发明名称 |
一种陶瓷表面选择性金属化方法和一种陶瓷 |
摘要 |
本发明提供了一种陶瓷表面选择性金属化方法,包括以下步骤:A.采用氮化铝浆料对陶瓷基板表面进行丝网印刷,所述氮化铝浆料为含有有机溶剂、玻璃粉和氮化铝的混合物;B.将步骤A的产品烘干后进行烧结,得到表面具有预制层的陶瓷;C.对步骤B的陶瓷表面预制层的选定区域采用能量束进行辐射,在选定区域形成化学镀活性中心;D.对步骤C的陶瓷表面进行化学镀,在选定区域形成金属层。本发明还提供了一种陶瓷。本发明的陶瓷表面通过化学镀形成金属镀层,线路精度高,镀层与陶瓷基材的附着力较高,且成本较低。 |
申请公布号 |
CN102850091B |
申请公布日期 |
2014.04.30 |
申请号 |
CN201110176898.4 |
申请日期 |
2011.06.28 |
申请人 |
比亚迪股份有限公司 |
发明人 |
任永鹏;林信平;张保祥 |
分类号 |
C04B41/90(2006.01)I;C04B41/85(2006.01)I |
主分类号 |
C04B41/90(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种陶瓷表面选择性金属化方法,其特征在于,包括以下步骤:A.采用氮化铝浆料对陶瓷基板表面进行丝网印刷,所述氮化铝浆料为含有有机溶剂、玻璃粉和氮化铝的混合物;B.将步骤A的产品烘干后进行烧结,得到表面具有预制层的陶瓷; C.对步骤B的陶瓷表面预制层的选定区域采用能量束进行辐射,在选定区域形成化学镀活性中心;D.对步骤C的陶瓷表面进行化学镀,在选定区域形成金属层;所述能量束为激光、电子束或离子束;激光辐射的条件包括:激光波长为200‑3000nm,功率为5‑3000W,频率为0.1‑200KHz,激光走线速度为0.01‑50000mm/s,填充间距0.01mm‑5mm;电子束辐射的功率密度为10<sup>1</sup>‑10<sup>11</sup>W/cm<sup>2</sup>;离子束辐射的离子束能量为10<sup>1</sup>‑10<sup>6</sup>eV。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |