掩模板和过孔形成方法

摘要

本发明涉及显示技术领域，公开了一种掩模板和过孔形成方法，所述掩模板上具有透光图案，所述透光图案的边缘为弯曲状。本发明适用于所有需要进行曝光显影的正性光刻胶材料和正性感光树脂材料，将掩模板的透光图案的边缘设为弯曲状，可以增加整体图形的曝光量，由于该弯曲状的边缘的尺寸远小于曝光机的分辨率，因此，弯曲状边缘的光刻胶或正性感光树脂只是少量地被曝光，大部分得到保留，使得过孔的整体尺寸小，不会超过4μm，满足高分辨率下精细化布线的要求。

主权项

一种掩模板，所述掩模板上具有透光图案，其特征在于，所述透光图案的边缘为弯曲状。