发明名称 一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用
摘要 本发明提供一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用,直接将刻蚀精度难以控制的Invar材质的掩模板改为可以利用激光刻蚀控制开口精度的柔性薄膜代替,以提高精密掩模板(FMM:Fine Metal Mask)的制备精度,提高屏体的开口率。本发明提供两种制作方案,第一种实施方案中,精密掩模板完全采用高强度、具有磁性的柔性材料,通过磁性吸引力将掩模板与基板全部贴合起来,不需将掩模板固定在不锈钢框架上。第二中实施方案中,将Invar材质的掩模板开口增大,然后在开口区域填充柔性材料,再使用激光刻蚀的方法,在柔性材料上刻蚀形成小孔,提高FMM的精度。
申请公布号 CN103757588A 申请公布日期 2014.04.30
申请号 CN201310743790.8 申请日期 2013.12.30
申请人 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司;北京维信诺科技有限公司 发明人 何麟;陈红;刘嵩;李维维
分类号 C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人 彭秀丽
主权项 一种掩膜板,其特征在于,包括:具有磁性的柔性薄膜和若干成型于所述柔性薄膜上的贯穿所述柔性薄膜的开口。
地址 215300 江苏省苏州市昆山市开发区光电产业园富春江路320号