| 发明名称 | 用于无掩模光刻的聚焦斑点优化 | ||
| 摘要 | 在投影系统的中继器(30)中优化诸如无掩模光刻投影系统的活动斑点阵列投影系统(18)的聚焦斑点(32)。空间滤波器(70)位于中继器光瞳(68)附近，以重构聚焦斑点(32)并同时将聚焦斑点(32)成像在光敏基板(36)。 | ||
| 申请公布号 | CN102132215B | 申请公布日期 | 2014.04.30 |
| 申请号 | CN200980134104.9 | 申请日期 | 2009.07.21 |
| 申请人 | 康宁股份有限公司 | 发明人 | P·F·米开罗斯基 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 钱慰民 |
| 主权项 | 一种活动斑点阵列投影系统，包括：发光器，用于照射图案发生器的可寻址元件；成像器，用于将图案发生器的可寻址元件成像在相应聚焦元件上，所述相应聚焦元件在聚焦元件的焦点处、在由图案发生器控制的图案中形成聚焦斑点；中继器，用于将聚焦斑点的图案的图像中继到光敏基板上，每个聚焦斑点包含一范围的空间频率；以及在中继器光瞳附近的变迹器，用于统一调制出现在中继器光瞳内的选定位置中的选定空间频率以调节光敏基板上的聚焦斑点的形状。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||